一种掩膜板和曝光方法

摘要：

本发明实施例公开了一种掩膜板和曝光方法，涉及显示技术领域，使用该掩膜板能够形成多层结构。该掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410384302.3

申请日期：2014-08-06

公开/公告号：CN104166303A

公开/公告日：2014-11-26

主分类号：G03F1/00(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方显示技术有限公司

发明/设计人:王宝强;朴相镇

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，其特征在于，包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。