一种掩膜板

摘要：

本发明提供一种掩膜板，属于显示技术领域，其可解决现有的单层膜掩膜板由于欠曝光区域较大，造成应用范围有限的问题。本发明的掩膜板包括：衬底和设置的衬底两侧的用于遮挡曝光光线的挡光层，所述挡光层包括靠近曝光光线的第一挡光层和远离曝光光线的第二挡光层，所述第一挡光层和第二挡光层具有开口中心线重合的开口区域。本发明的掩膜板由于采用双挡光层设计，能够用于制作更窄线宽产品的制作，更适合于高分辨率产品的制作。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410153709.5

申请日期：2014-04-16

公开/公告号：CN103969939A

公开/公告日：2014-08-06

主分类号：G03F1/00(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%成都京东方光电科技有限公司

发明/设计人:张康

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人:柴亮%张天舒

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，其特征在于，包括衬底和设置的衬底两侧的用于遮挡曝光光线的挡光层，所述挡光层包括靠近曝光光线的第一挡光层和远离曝光光线的第二挡光层，所述第一挡光层和第二挡光层具有开口中心线重合的开口区域。