一种掩膜板及其制造方法

摘要：

本发明公开了一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其中，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。本发明还公开了一种掩膜板的制造方法，能随意调整过孔的大小，尤其是能制造出较小尺寸的过孔。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310100101.1

申请日期：2013-03-26

公开/公告号：CN104076599A

公开/公告日：2014-10-01

主分类号：G03F1/54(2012.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:李田生;刘保力;谢振宇;郭建

主申请人地址:100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人:张颖玲%程立民

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；其中，所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。