一种掩膜板

摘要：

本实用新型涉及掩膜技术领域，特别涉及一种掩膜板，该掩膜板使用寿命长，并可减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题。本实用新型公开了一种掩膜板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层，以及开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组，每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区，每个所述微孔组包括多个透光孔，每个所述透光孔可以增强与其相邻的透光孔边缘的光强度，使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420016940.5

申请日期：2014-01-10

公开/公告号：CN203658725U

公开/公告日：2014-06-18

主分类号：G03F1/38(2012.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:张家祥;姜晓辉;阎长江

主申请人地址:100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层，其特征在于，还包括：开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组，每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区，每个所述微孔组包括多个透光孔，每个所述透光孔可增强与其相邻的透光孔边缘的光强度，以使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。