一种掩膜板、基板及基板的制作方法

摘要：

本发明提供了一种掩膜板、基板及基板的制作方法，涉及显示技术领域，解决了现有技术中掩膜板对位时无法实现精度对位的问题。一种掩膜板，包括曝光图案，其中，所述曝光图案包括第一曝光图案和第二曝光图案，其中，所述第一曝光图案用于形成对应的薄膜图案，所述第二曝光图案用于掩膜板的曝光对位，且至少所述第二曝光图案的透光性可调节。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310513861.5

申请日期：2013-10-25

公开/公告号：CN103513509A

公开/公告日：2014-01-15

主分类号：G03F1/80(2012.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:郭建

主申请人地址:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，包括曝光图案，其特征在于，所述曝光图案包括第一曝光图案和第二曝光图案，其中，所述第一曝光图案用于形成对应的薄膜图案，所述第二曝光图案用于掩膜板的曝光对位，且至少所述第二曝光图案的透光性可调节。