641.光学记录装置、以及光学记录和再现装置
发明专利 无权
分类号: G03H1/04(2006.01)I G G03 G03H G03H1 申请日期：2009-09-02申请人：富士施乐株式会社
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643.光学邻近校正的方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/14(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-02-04申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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644.光学镜头检测装置及方法
发明专利 有权
分类号: G03B43/00(2006.01)I G G03 G03B G03B43 申请日期：2009-07-29申请人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 鸿海精密工业股份有限公司
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645.光学防手震的测试装置
实用新型 无权
分类号: G03B43/00(2006.01)I G G03 G03B G03B43 申请日期：2009-11-18申请人：华晶科技股份有限公司
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646.光感测装置和具有光感测装置的投影机
实用新型 无权
分类号: G03B21/14(2006.01)I G G03 G03B G03B21 申请日期：2009-10-14申请人：捷扬光电股份有限公司
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647.光扫描装置以及图像形成装置
发明专利 有权
分类号: G03G15/04(2006.01)I G G03 G03G G03G15 申请日期：2009-12-30申请人：夏普株式会社
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648.光扫描装置及具有该光扫描装置的图像形成装置
发明专利 有权
分类号: G03G15/01(2006.01)I G G03 G03G G03G15 G G03 G03G G03G15 申请日期：2009-01-14申请人：京瓷美达株式会社
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649.光掩模
实用新型 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-16申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
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650.光掩模、光掩模制造方法以及光掩模缺陷修正方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-08-05申请人：HOYA株式会社
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651.光掩模、半导体器件制造系统和半导体器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-23申请人：株式会社瑞萨科技
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652.光掩模、半导体装置及半导体装置的制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-05-27申请人：精工爱普生株式会社
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653.光掩模保护膜系统和集成电路的制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01) G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-01-28申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
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654.光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-02-25申请人：HOYA株式会社
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655.光掩模储放装置
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-30申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
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656.光掩模及使用该光掩模制造半导体器件的方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-06-03申请人：海力士半导体有限公司
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657.光掩模及其制造方法和图案转印方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-01-21申请人：HOYA株式会社
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658.光掩模及其检查装置、方法、以及制造方法、图案转写方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-06-03申请人：HOYA株式会社
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659.光掩模和光掩模的制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-02-25申请人：HOYA株式会社
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660.光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-10-14申请人：HOYA株式会社
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