光掩模、光掩模制造方法以及光掩模缺陷修正方法

摘要：

光掩模缺陷修正方法、光掩模制造方法、相移掩模制造方法、光掩模、相移掩模、光掩模组以及图案转印方法。在第1光掩模(1)所形成的第1转印图案中产生的图案缺陷(4、5)中，仅对如下区域中的缺陷(4)进行修正，即进行使用第1光掩模(1)对被转印体进行的转印、和与第1光掩模(1)组合使用向同一被转印体转印第2转印图案的第2光掩模对被转印体进行的转印这两者时，在被转印体上第1转印图案所包含的图案中，通过第2转印图案的转印而不形成图案的区域之外的区域。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910003232.1

申请日期：2009-01-21

公开/公告号：CN101498892

公开/公告日：2009-08-05

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:须田秀喜

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司

代理人:黄纶伟

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种光掩模缺陷修正方法，其特征在于，在上述光掩模上形成的第1转印图案中产生的图案缺陷中，仅对如下区域中的图案缺陷进行缺陷修正，所述区域是：进行使用上述光掩模对被转印体进行的转印、和与上述光掩模组合使用向同一被转印体转印第2转印图案的第2光掩模对上述被转印体进行的转印这两者时，在上述被转印体上第1转印图案所包含的图案中，通过第2转印图案的转印而不形成图案的区域之外的区域。