光掩模及其制造方法和图案转印方法

摘要：

本发明提供一种光掩模，该光掩模具有透光部和半透光部，通过图案形成在透明基板上形成的半透光膜来形成规定的图案，通过透过该光掩模的曝光光，在被转印体上形成线宽不足3μm的转印图案，该光掩模包括由透光部和半透光部构成的图案，且上述透光部和半透光部的至少一方具有不足3μm的线宽部分。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810133697.4

申请日期：2008-07-18

公开/公告号：CN101349864

公开/公告日：2009-01-21

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:佐野道明

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种光掩模，具有透光部和半透光部，通过图案形成在透明基板上形成的半透光膜而形成规定的图案，通过透过该光掩模的曝光光，在被转印体上形成线宽不足3μm的转印图案，包含由所述透光部和所述半透光部构成的图案，且所述透光部或所述半透光部的至少一方具有不足3μm的线宽的部分。