光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法

摘要：

本发明提供光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法、电子器件的制造支援方法、电子器件的制造方法及光掩模制品，用与规定的曝光条件近似的曝光条件对光掩模进行曝光，通过拍摄装置获取该光掩模的透过光图形，并基于获取的透过光图形得到透过光图形数据。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810134031.0

申请日期：2008-07-22

公开/公告号：CN101373324

公开/公告日：2009-02-25

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:吉田光一郎;井村和久

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种获取光掩模的信息的光掩模信息的获取方法，该光掩模使用于：对在施行了蚀刻加工的被加工层上形成的抗蚀膜，用具有由遮光部、透光部及半透光部构成的规定的转印图形的光掩模在规定的曝光条件下进行曝光，将所述抗蚀膜形成为具有在所述蚀刻加工中成为掩模的抗蚀残膜量的不同部位的抗蚀图形，该光掩模信息的获取方法，包括：用与所述规定的曝光条件近似的曝光条件，对所述光掩模或与所述光掩模近似的测试掩模进行曝光，通过拍摄装置获取所述光掩模或所述测试掩模的透过光图形，生成含有基于获取的透过光图形的透过光图形数据的光掩模信息，并且将所述光掩模信息与所述光掩模建立对应。