光掩模和光掩模的制造方法

摘要：

本发明提供一种光掩模，具有多个遮光部、多个透光部和多个半透光部(灰色调部)光掩模(灰色调掩模)，即使在形成多个半透光部的半透光膜中产生膜厚倾斜等膜厚的不均一之际，多个半透光部的曝光光的透过量也不随着光掩模上的位置而受所述不均一影响，能良好控制在使用该灰色调掩模形成的抗蚀图中的抗蚀剂膜厚。在透明衬底1上形成遮光膜(6)和半透光膜(5)，对遮光膜(6)和半透光膜(5)分别进行图案化，形成多个遮光部(2)、多个透光部(3)和曝光光一部分透过的多个半透光部(4)。半透光膜(5)随着膜面的位置而曝光光的透过率不同，按照在曝光条件下多个半透光部(4)的有效透过率变为大致均一的方式进行所述图案化。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810130876.2

申请日期：2008-08-21

公开/公告号：CN101373323

公开/公告日：2009-02-25

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:吉田光一郎;井村和久

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李贵亮

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种光掩模，使用在以下工序中，即，在对要被蚀刻加工的被加工层上形成的抗蚀剂膜，使用光掩模在给定的曝光条件下进行曝光，而将该抗蚀剂膜形成为所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀图的工序中，上述光掩模，通过在透明衬底上形成遮光膜和半透光膜，并对该透光膜和半透光膜分别进行图案化，由此形成有多个遮光部、多个透光部和使曝光光的一部分透过的多个半透光部，其特征在于，所述半透光膜，随着膜面的位置而曝光光的膜透过率不同；按照在所述曝光条件下所述多个半透光部的有效透过率为大致均一的方式，进行所述图案化。