光学记录装置、以及光学记录和再现装置

摘要：

本发明提供光学记录装置、以及光学记录和再现装置。光学记录装置包括光源、空间光调制器、校正光学系统和光引导部。空间光调制器包括多个像素、显示信号光图案的信号光区域、和显示参考光图案的参考光区域。空间光调制器根据显示图案针对各个像素对入射光进行调制和输出。校正光学系统包括一对轴锥透镜，这一对轴锥透镜对从光源发射的光进行校正从而使其在空间光调制器的被照射面上的光强度分布平坦。光引导部将经校正的光引导到空间光调制器。将信号光和参考光同时照射到光学记录介质上，在该光学记录介质中记录全息图。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810183822.2

申请日期：2008-12-09

公开/公告号：CN101520636

公开/公告日：2009-09-02

主分类号：G03H1/04(2006.01)I

申请/专利权人:富士施乐株式会社

发明/设计人:三锅治郎;小笠原康裕

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司

代理人:李 辉

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种光学记录装置，该光学记录装置包括：光源，其发射相干光；空间光调制器，其由二维排列的多个像素形成，包括信号光区域和参考光区域，所述信号光区域在产生信号光时显示信号光图案，所述参考光区域被布置为环绕所述信号光区域并在产生与所述信号光同轴的参考光时显示参考光图案，并且，所述空间光调制器根据显示图案针对各个像素调制并输出入射光；校正光学系统，其被布置在所述光源和所述空间光调制器之间，并且包括一对轴锥透镜，这一对轴锥透镜对从所述光源发射的光进行校正以使其在所述空间光调制器的被照射面上的光强度分布平坦；以及光引导部，其将由所述校正光学系统进行了校正的光引导到所述空间光调制器，其中，所述空间光调制器产生的信号光和参考光同时照射到光学记录介质上，在所述光学记录介质中记录全息图。