921.化学放大型正性抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-28申请人：住友化学株式会社
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922.化学放大型正性抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-30申请人：住友化学株式会社
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923.化学放大型正性抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-11-18申请人：住友化学株式会社
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924.化学放大的负性抗蚀剂组合物和图案形成方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/038(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-03-18申请人：信越化学工业株式会社
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927.升降式辐射成像装置
发明专利 有权
分类号: G03B42/02(2006.01)I G G03 G03B G03B42 申请日期：2009-05-27申请人：同方威视技术股份有限公司 清华大学
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928.半导体器件的精细构图方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/26(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-17申请人：三星电子株式会社
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929.半导体处理中控制形成在晶片上的结构的临界尺寸的方法和系统
发明专利 有权
分类号: G03C5/00(2006.01)I G G03 G03C G03C5 申请日期：2009-05-13申请人：东京毅力科创株式会社
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930.半导体平版印刷用防护薄膜组件
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-11-18申请人：信越化学工业株式会社
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931.半导体线宽测量扫描电子显微镜的自动镜头校正方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-03-18申请人：上海华虹NEC电子有限公司
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932.半导体装置及摄像装置
发明专利 有权
分类号: G03B5/00(2006.01)I G G03 G03B G03B5 申请日期：2009-06-03申请人：三洋电机株式会社 三洋半导体株式会社
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933.半导体装置和摄像装置
发明专利 有权
分类号: G03B5/00(2006.01)I G G03 G03B G03B5 申请日期：2009-06-03申请人：三洋电机株式会社 三洋半导体株式会社
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934.半导体集成电路器件的制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-02申请人：株式会社瑞萨科技
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936.半球形摄像机的万向调节装置
实用新型 无权
分类号: G03B17/56(2006.01)I G G03 G03B G03B17 申请日期：2009-06-03申请人：杭州海康威视数字技术股份有限公司
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937.半色调掩模、制造方法和有源矩阵型显示设备
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-01-14申请人：NEC液晶技术株式会社
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938.半色调掩模板及其制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-03-18申请人：北京京东方光电科技有限公司
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939.半色调掩模板及其制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-04-15申请人：北京京东方光电科技有限公司
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940.半色调掩模板结构及其制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-02-25申请人：北京京东方光电科技有限公司
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