化学放大的负性抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要：

一种含有聚合物的化学放大负性抗蚀剂组合物，所述聚合物包含重复的羟基苯乙烯单元和其上具有吸电子取代基的重复苯乙烯单元。在形成一种具有小于0.1μm微细特征尺寸的图案中，组合物表现出高的分辨率，由组合物形成的抗蚀涂层可以处理成这种微细尺寸图案而将图案特征之间桥连接的形成最小化。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810173799.9

申请日期：2008-03-28

公开/公告号：CN101387831

公开/公告日：2009-03-18

主分类号：G03F7/038(2006.01)I

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

发明/设计人:武田隆信;渡边保;小板桥龙二;增永惠一;田中启顺;渡边修

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:任宗华

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种含有聚合物的化学放大负性抗蚀剂组合物，所述聚合物包含具有通式(1)和(2)的重复单元:其中R1和R2相互独立地为氢或甲基，X为吸电子基团，m为0或者1到4的整数，n为1到5的整数，所述聚合物具有1,000到50,000的重均分子量。