半色调掩模板及其制造方法

摘要：

本发明涉及一种半色调掩模板及其制造方法，半色调掩模板包括基板，基板设有非透射区域、半透射区域和透射区域，在非透射区域设置掩模材料层；在半透射区域的基板表面设有可调节透射率的压花。制造方法包括在基板上设置非透射区域、半透射区域和透射区域，在基板的非透射区域上形成掩模材料层和在基板的半透射区域上形成可调节透射率的压花。本发明可以解决重复沉积现象，并且还可以进一步提高半色调掩模板的质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710121735.X

申请日期：2007-09-13

公开/公告号：CN101387826

公开/公告日：2009-03-18

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:刘圣烈;柳在一

主申请人地址:100176北京市经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人:刘 芳

国别省市代码:北京;11

权利要求：

1、一种半色调掩模板，包括基板，所述基板设有非透射区域、半透射区域和透射区域，在非透射区域设置掩模材料层，其特征在于：在半透射区域的基板表面设有可调节透射率的压花。