半色调掩模、制造方法和有源矩阵型显示设备

摘要：

一种用于形成具有不同膜厚度的不同抗蚀图案的半色调掩模，所述半色调掩模包括：用于形成第一抗蚀图案的第一掩模图案；用于形成具有小于第一抗蚀图案的膜厚度的第二抗蚀图案的第二掩模图案；以及形成第二掩模图案的至少部分边缘区域的第三掩模图案。第三掩模图案用于形成具有大于第二抗蚀图案的膜厚度的第三抗蚀图案。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810136145.9

申请日期：2008-07-10

公开/公告号：CN101344716

公开/公告日：2009-01-14

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:NEC液晶技术株式会社

发明/设计人:赤神和昭;城户秀作

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种用于形成具有不同膜厚度的抗蚀图案的半色调掩模，包括：第一掩模图案，所述第一掩模图案用于形成第一抗蚀图案；第二掩模图案，所述第二掩模图案用于形成具有小于所述第一抗蚀图案的膜厚度的膜厚度的第二抗蚀图案；以及第三掩模图案，所述第三掩模图案形成所述第二掩模图案的至少部分边缘区域，并用于形成具有大于所述第二抗蚀图案的膜厚度的膜厚度的第三抗蚀图案。