升降式辐射成像装置

摘要：

本发明辐射成像装置涉及一种可升降式的辐射成像装置。包括具有辐射源的辐射装置和具有成像模块的成像装置，其中所述辐射装置和成像装置彼此相对独立布置，其中所述辐射装置包括辐射底盘、安装在辐射底盘上的辐射一级升降机构，辐射源活动设置在辐射一级升降机构上；所述成像装置包括成像底盘、安装在成像底盘上的成像一级升降机构和安装在成像一级升降机构上的成像二级升降机构，所述成像模块安装在成像二级升降机构上。本发明结构简单，体积小，重量轻，且辐射装置与成像装置分为两部分结构，便于拆装和运输，并可以检测高度大于辐射成像装置本身的物体。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710177750.6

申请日期：2007-11-20

公开/公告号：CN101441400

公开/公告日：2009-05-27

主分类号：G03B42/02(2006.01)I

申请/专利权人:同方威视技术股份有限公司%清华大学

发明/设计人:杨中荣;毕 勇;阚洪友;刘飞燕;温燕杰;李荐民;赵自然

主申请人地址:100084北京市海淀区双清路同方大厦A座二层

专利代理机构:北京路浩知识产权代理有限公司

代理人:刘长威

国别省市代码:北京;11

权利要求：

1. 一种升降式辐射成像装置，包括具有辐射源的辐射装置和具有成像模块的成像装置，其特征在于所述辐射装置和成像装置彼此相对独立布置，其中所述辐射装置包括辐射底盘(23)、安装在辐射底盘(23)上的辐射一级升降机构，辐射源活动设置在辐射一级升降机构上；所述成像装置包括成像底盘(24)、安装在成像底盘(24)上的成像一级升降机构和安装在成像一级升降机构上的成像二级升降机构，所述成像模块安装在成像二级升降机构上。