661.光掩模坯料、抗蚀图案成形方法以及光掩模制备方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/004(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-08申请人：信越化学工业株式会社
导出
662.光掩模对位曝光方法及光掩模组件
发明专利 无权
分类号: G03F9/00(2006.01)I G G03 G03F G03F9 申请日期：2009-07-08申请人：奇美电子股份有限公司
导出
664.光掩模材料、光掩模及光掩模的制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-09申请人：富士胶片株式会社
导出
665.光掩模检测方法与在线即时光掩模检测方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01) G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-01-14申请人：联华电子股份有限公司
导出
666.光掩模清洗机的工艺处理舱
实用新型 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-01-07申请人：徐 飞
导出
667.光掩模版、制作光掩模版的方法及曝光的方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-06-03申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
导出
668.光掩模版及其制作方法、图形化的方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-06-17申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
导出
669.光掩模用基板以及光掩模和该光掩模的制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/08(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-30申请人：吉奥马科技有限公司
导出
670.光掩模的制造方法、图案复制方法、光掩模以及数据库
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-03-11申请人：HOYA株式会社
导出
671.光掩模的白缺陷修正方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-04-29申请人：欧姆龙激光先进株式会社
导出
672.光掩模设计方法以及使用光掩模制造半导体器件的方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-09-09申请人：恩益禧电子股份有限公司
导出
673.光掩膜、薄膜晶体管元件及制作薄膜晶体管元件的方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-12-09申请人：友达光电股份有限公司
导出
674.光掩膜及光掩膜的制造方法,以及图案转印方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-05-27申请人：HOYA株式会社
导出
675.光掩膜及光掩膜的制造方法、以及图案转印方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-04-01申请人：HOYA株式会社
导出
676.光敏化合物和包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/004(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-05-20申请人：株式会社东进世美肯
导出
677.光敏层的图案化方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/36(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-07申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
导出
678.光敏性平版印刷板材料
发明专利 无权
分类号: G03F7/027(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-05-20申请人：柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社
导出
679.光敏性平版印刷版材料
发明专利 无权
分类号: G03F7/004(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-29申请人：柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社
导出
680.光敏材料及其应用
发明专利 无权
分类号: G03F7/075(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-08申请人：霍尼韦尔国际公司
导出