光掩模的白缺陷修正方法

摘要：

本发明提供一种光掩模的白缺陷修正方法，即：取得无白缺陷的参考图案的透过图像(步骤S11)，在修正加工开始(步骤S12)后，取得缺陷修正部分的透过图像(步骤S13)。之后，对透过图像的各像素的亮度作运算处理(步骤S14)，从运算结果算出1个以上的判定值(步骤S15)。根据该判定值判断是否结束修正加工(步骤S16)，在判断为结束修正加工之前，判断是否要变更加工条件(步骤S17)，在根据需要变更了加工条件(步骤S18)后，重复步骤S13以后的步骤。在步骤S16中若判断为结束修正加工，则结束修正加工(步骤S19)。从而，即使对于复杂的修正加工条件，也能够以高精度且高效率地修正白缺陷。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810133928.1

申请日期：2008-07-11

公开/公告号：CN101419399

公开/公告日：2009-04-29

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:欧姆龙激光先进株式会社

发明/设计人:久住庸辅

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:何欣亭%刘宗杰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种用激光CVD法修正加工光掩模的白缺陷的光掩模白缺陷修正方法，其特征在于包括如下步骤：取得在与所述白缺陷相同位置上无白缺陷的参考图案的透过图像；在与所述参考图案的透过图像相同的条件下，取得作了所述修正加工的缺陷修正部分的透过图像；对所述参考图案和所述缺陷修正部分的透过图像作运算处理；根据从所述运算处理的结果算出的至少1个以上的判定值，判断是否结束所述修正加工；在判断为结束所述修正加工之前，至少重复从取得所述缺陷修正部分的透过图像的步骤起的步骤；在该重复步骤中，根据所述判定值判断是否变更所述修正加工的条件。