光掩模清洗机的工艺处理舱
本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱,属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖,所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成,上罩具有圆锥形的罩壁,中罩的罩壁上设有一个抽气口,且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈,挡流圈延伸并超过抽气口,具有排液口的底罩与内套的下部密封连接,顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染,提高光掩模清洗效率的特点。
实用新型
CN200820034064.3
2008-04-14
CN201177730
2009-01-07
G03F1/00(2006.01)I
徐 飞
徐 飞;金海涛
213022江苏省常州市新北区汉江路376号
常州市维益专利事务所
贾海芬
江苏;32
1、一种光掩模清洗机的工艺处理舱,包括外罩、内套(4)和顶盖(2),其特征在于:所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩(1)、中罩(5)和底罩(6)构成,上罩(1)具有圆锥形的罩壁,中罩(5)的罩壁上设有一个抽气口(52),且中罩(5)内具有一个倒锥形的挡流圈(51),挡流圈(51)延伸并超过抽气口(52),具有排液口(61)的底罩(6)与内套(4)的下部密封连接,顶盖(2)密封安装在内套(4)的上部。