光掩模的制造方法、图案复制方法、光掩模以及数据库
本发明提供一种光掩模的制造方法，具有：利用再现仿真了曝光条件的曝光条件的曝光单元，在形成有规定图案的测试掩模上进行测试曝光，通过摄像单元取得该测试掩模的透过光图案，并根据所取得的透过光图案得到透过光图案数据的工序；和根据透过光图案数据在曝光条件下取得有效透过率的工序；根据该有效透过率对该区域的形状、该区域上所形成的膜的材料或膜厚进行确定。
发明专利
CN200810134032.5
2008-07-22
CN101382729
2009-03-11
G03F1/00(2006.01)I
HOYA株式会社
吉田光一郎;井村和久
日本东京都
中科专利商标代理有限责任公司
李贵亮
日本;JP
1. 一种光掩模的制造方法，该光掩模用于下述情况：对在要被蚀刻加工的被加工层上所形成的抗蚀剂膜，使用具有规定复制图案的该光掩模，在规定曝光条件下进行曝光，复制所述规定复制图案，将该抗蚀剂膜作成在所述蚀刻加工中成为掩模的规定形状的抗蚀剂图案，其中所述规定复制图案包含透光部分、遮光部分以及使曝光光的一部分透过的半透光部分，所述制造方法包括：利用近似所述曝光条件的曝光条件，对形成有规定测试图案的测试掩模进行测试曝光，并由摄像单元取得该测试图案的透过光图案，且根据所取得的透过光图案得到透过光图案数据的工序；和根据所述透过光图案数据，取得在近似所述曝光条件的曝光条件下的所述测试图案的有效透过率的工序；根据所述有效透过率，确定所述光掩模的包含半透光部分的图案形状、在包含该半透光部分的区域所形成的膜的材料、或者该区域的膜厚，以便在所述规定曝光条件下可以将所述抗蚀剂膜作成所述规定形状的抗蚀剂图案。