光掩膜及光掩膜的制造方法,以及图案转印方法

摘要：

本发明提供一种光掩膜及光掩膜的制造方法、以及图案转印方法。本发明的课题在于提供一种灰度掩膜等的光掩膜，可抑制掩膜使用时的处理中引起的图案的静电破坏的发生，即便万一产生静电破坏，也不影响使用于设备形成的掩膜图案。本发明是在透明基板(24)上具有用于在被转印体上形成期望的转印图案的掩膜图案(例如灰度掩膜)的光掩膜，具有从电气孤立的多个掩膜图案(10a、10b、10c)中分别引出的导电性图案(11a和11b、11c和11d、12a和12b、12c和12d)。该导电性图案具有互不接触、且较之所述各掩膜图案间更互相邻近的部分，例如由半透光膜或透光膜形成。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810173369.7

申请日期：2008-11-20

公开/公告号：CN101441408

公开/公告日：2009-05-27

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:佐野道明

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种光掩膜，在透明基板上具有用于在被转印体上形成期望的转印图案的掩膜图案，其特征在于：具有从电气孤立的多个掩膜图案分别引出的导电性图案，该导电性图案具有互不接触、且较之所述多个掩膜图案间更互相邻近的部分。