光掩模布局图

摘要：

本发明公开了一种光掩模布局图案。该光掩模布局图案包含有H型图案，其包括第一直线图案、第二直线图案以及连接该第一直线图案与该第二直线图案的中间区域，其中该第一直线图案与该第二直线图案互相平行，该中间区域内设有多条类斑马线的密集线条及间隔图案。其中该密集线条及间隔图案的间距须小到能够超过曝光机台的解析能力，使得穿透该中间区域的光线能量不足以让该密集线条及间隔图案在光刻胶中被曝出来。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710146825.4

申请日期：2007-08-24

公开/公告号：CN101373326

公开/公告日：2009-02-25

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:南亚科技股份有限公司

发明/设计人:周国耀

主申请人地址:中国台湾桃园县

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:彭久云%许向华

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1.一种光掩模布局图案，包含有H型图案，其包括第一直线图案、第二 直线图案以及连接该第一直线图案与该第二直线图案的中间区域，其中该第 一直线图案与该第二直线图案互相平行，该中间区域内设有多条密集线条及 间隔图案。