光掩膜及光掩膜的制造方法、以及图案转印方法

摘要：

本发明提供一种光掩膜(例如灰度掩膜)，其在透明基板(24)上具有用于在被转印体上形成所希望的转印图案的掩膜图案，具有：将掩膜图案(10a、10b、10c)间连接的、不会被转印到转印体的细线状的导电性图案(11a、11b、12a、12b)。该细线状的导电性图案，由半透光膜或者透光膜所形成。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810168133.4

申请日期：2008-09-28

公开/公告号：CN101398612

公开/公告日：2009-04-01

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:佐野道明

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种光掩膜，在透明基板上具有用于在被转印体上形成所希望的转印图案的掩膜图案，其中，具有导电性图案，其将电孤立的掩膜图案间相互连接，具有给定线宽，并且由对暴光光的透过率为给定值以下的透光膜或者半透光膜构成。