902.加热装置、定影装置和成像装置
发明专利 有权
分类号: G03G15/20(2006.01)I G G03 G03G G03G15 申请日期：2009-11-25申请人：富士施乐株式会社
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903.匀胶机加湿器
实用新型 无权
分类号: G03F7/16(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-04-08申请人：深圳深爱半导体有限公司
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904.匀胶机的排液装置
实用新型 无权
分类号: G03F7/16(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-04-29申请人：深圳深爱半导体有限公司
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905.包含不相容添加剂的液体显影剂
发明专利 无权
分类号: G03G9/087(2006.01)I G G03 G03G G03G9 申请日期：2009-09-02申请人：惠普发展公司,有限责任合伙企业
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906.包含全息显示装置的移动电话系统
发明专利 有权
分类号: G03H1/00(2006.01)I G G03 G03H G03H1 申请日期：2009-10-28申请人：视瑞尔技术公司
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907.包含聚乙烯醇的光敏组合物及其在印花方法中的用途
发明专利 无权
分类号: G03F7/016(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-08-19申请人：凯昂公司
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908.包含苯甲酰甲酸酯型光引发剂的可光固化组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/031(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-09-02申请人：西巴控股有限公司
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909.包含酚醛清漆树脂共混物的光刻胶
发明专利 无权
分类号: G03F7/016(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-05-06申请人：罗门哈斯电子材料有限公司
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910.包括具有复合载体的洛仑兹致动器的光刻设备
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-04-15申请人：ASML荷兰有限公司
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911.包括含聚合物改性粘土的纳米复合材料的调色剂的制法
发明专利 无权
分类号: G03G9/08(2006.01)I G G03 G03G G03G9 G G03 G03G G03G9 申请日期：2009-02-18申请人：施乐公司
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912.包括含聚合物改性粘土的纳米尺度复合材料的调色剂颗粒
发明专利 无权
分类号: G03G9/08(2006.01)I G G03 G03G G03G9 G G03 G03G G03G9 申请日期：2009-02-18申请人：施乐公司
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913.包括图像模糊校正装置的光学设备
发明专利 有权
分类号: G03B5/00(2006.01)I G G03 G03B G03B5 申请日期：2009-04-22申请人：佳能株式会社
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914.包括安全特征的存储介质和生产包括安全特征的存储介质的方法
发明专利 有权
分类号: G03H1/04(2006.01)I G G03 G03H G03H1 申请日期：2009-04-08申请人：蒂萨斯克里博斯有限责任公司
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915.包括旋转污染物陷阱的设备
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-08-26申请人：ASML荷兰有限公司
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916.包括有光学特殊效应片的激光印刷介质
发明专利 无权
分类号: G03G9/08(2006.01)I G G03 G03G G03G9 申请日期：2009-08-26申请人：JDS尤尼弗思公司
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917.包括清洁装置的光刻设备及用于清洁光学元件的方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-01-28申请人：ASML荷兰有限公司
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918.化学品液供应装置及使用该装置的基底处理装置和方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/16(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-01申请人：细美事有限公司
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919.化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-09-30申请人：住友化学株式会社
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920.化学放大型正性抗蚀剂组合物
发明专利 无权
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-28申请人：住友化学株式会社
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