化学品液供应装置及使用该装置的基底处理装置和方法

摘要：

本发明提供了一种基底处理单元以及使用上述单元的基底处理装置和方法。在这种基底处理单元中设置有两根喷嘴臂，在每一根喷嘴臂上安装了若干光致抗蚀剂液喷嘴和有机溶剂喷嘴。流入上述光致抗蚀剂液喷嘴的光致抗蚀剂液的温度和流入上述有机溶剂喷嘴的有机溶剂的温度，都用通过同一通道供应的温度控制流体来保持。而且还设置有等待口，在处理过程中使用的喷嘴臂可以暂时安放在这个等待口中。上述有机溶剂提供给在处理过程中不使用的光致抗蚀剂液喷嘴，而不提供给在处理过程中使用的光致抗蚀剂液喷嘴。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810172305.5

申请日期：2008-10-31

公开/公告号：CN101470353

公开/公告日：2009-07-01

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:细美事有限公司

发明/设计人:柳寅喆

主申请人地址:韩国忠清南道

专利代理机构:北京信慧永光知识产权代理有限责任公司

代理人:武玉琴%陈桂香

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1. 一种化学品液供应装置，其包括：排放化学品液的多个喷嘴；喷嘴臂，其中安装上述多个喷嘴，并设置有向上述喷嘴供应上述化学品液的化学品液管；以及温度控制构件，其把温度控制流体供应到上述喷嘴臂中，用以控制流过上述化学品液管的化学品液的温度。