包括旋转污染物陷阱的设备

摘要：

本发明提供一种污染物陷阱设备(10)，其配置在辐射束的路径(R)上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源(50)发射的污染物。污染物陷阱设备(10)包括：具有多个限定通道(ch)的通道形成元件(11)的转子(10)，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子(10)包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源(50)的运行而会被充电；和构造成相对于转子承载结构(30)可旋转地保持所述转子(10)的轴承(20)，其中所述设备构造成(i)控制所述转子(10)的放电(ED)或改变所述转子(10)的放电(ED)方向，或(ii)抑制所述转子(10)的放电(ED)，或(iii)包括(i)和(ii)两者。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780035123.7

申请日期：2007-09-17

公开/公告号：CN101517490

公开/公告日：2009-08-26

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯;瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩;阿诺德·康纳立斯·瓦森克

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种污染物陷阱设备，其配置在辐射束的路径上以捕获从构造成产生所述辐射束的辐射源发射的污染物，所述污染物陷阱设备包括：转子，所述转子具有多个限定通道的通道形成元件，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源的运行而会被充电；和轴承，所述轴承构造成相对于转子承载结构可旋转地保持所述转子，其中所述装置构造成(i)控制所述转子的放电或改变所述转子的放电方向，或(ii)抑制所述转子的放电，或(iii)包括(i)和(ii)两者。