摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
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摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术共(4109篇)

1401.光写入装置以及图像形成装置

发明专利 有权
分类号: G03G15/043(2006.01)I G G03 G03G G03G15 申请日期:2014-09-17申请人:柯尼卡美能达株式会社
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1402.光写入装置及图像形成装置

发明专利 有权
分类号: G03G15/04(2006.01)I G G03 G03G G03G15 申请日期:2014-12-17申请人:株式会社理光
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1403.光刻图案化过程和其中使用的抗蚀剂

发明专利 有权
分类号: G03F7/004(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-03-19申请人:ASML荷兰有限公司
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1404.光刻对准标记的放置方法

发明专利 无权
分类号: G03F9/00(2006.01)I G G03 G03F G03F9 申请日期:2014-07-02申请人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
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1405.光刻工艺

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-01-29申请人:台湾积体电路制造股份有限公司
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1406.光刻工艺图形缺陷检测方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-03-19申请人:上海华力微电子有限公司
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1407.光刻技术用防尘薄膜组件

发明专利 有权
分类号: G03F1/62(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期:2014-07-02申请人:信越化学工业株式会社
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1408.光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-04-23申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1409.光刻掩模修复工艺

发明专利 有权
分类号: G03F1/74(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期:2014-07-09申请人:台湾积体电路制造股份有限公司
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1410.光刻方法

发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-02-12申请人:无锡华润上华半导体有限公司
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1411.光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置

实用新型 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-07-16申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1412.光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-05-14申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1413.光刻机光源与掩模的联合优化方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-07-16申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1414.光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-03-26申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1415.光刻机套片对准的方法

发明专利 有权
分类号: G03F9/00(2006.01)I G G03 G03F G03F9 申请日期:2014-11-26申请人:上海先进半导体制造股份有限公司
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1416.光刻机对准性能的检测方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-08-20申请人:上海华力微电子有限公司
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1417.光刻机工作台及其工作方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-02-12申请人:上海微电子装备有限公司
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1418.光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-07-30申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1419.光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-06-25申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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1420.光刻物镜奇像差原位检测方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2014-04-23申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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