瓦斯填充方法

摘要：

本发明揭示一种瓦斯填充方法，并不需要从外部注入加压瓦斯，而是在密闭的弹性体室内部产生瓦斯，而可轻易形成被加压的密闭弹性体室，压力的设定也容易，加之可同时填充瓦斯于独立的多个密闭弹性体室内部，至于其在密闭部室内产生瓦斯的方法，则是以高频电磁加热配置于密闭弹性体室内的发热材，使其发热，利用该热分解瓦斯产生剂以产生瓦斯而充满于密闭弹性体室的内部。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN98103077.7

申请日期：1998-07-27

公开/公告号：CN1243213

公开/公告日：2000-02-02

主分类号：F17C6/00

申请/专利权人:巧星股份有限公司

发明/设计人:黄堂庆云; 黄堂泰昌

主申请人地址:日本国大阪市

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:郑霞

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种在密闭弹性室内填充瓦斯的方法，其特征在于：其中所包括的步骤为：（A）安置瓦斯产生组成物，其中含有（1）瓦斯产生物质（剂），（2）发热物质，其能以磁场涡流与磁滞损失而产生热能，及（3）粘合剂，共同封入于密闭弹性体室内；（B）曝露该组成物于一高频振荡器所形成的磁场内，以令该发热物质产生热能；然后（C）分解该瓦斯产生剂，以在该密闭室内产生瓦斯；（D）结果：密闭室内充满瓦斯。