化学增强的光刻胶

摘要：

通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题，提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶，并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性，将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或ｔ－ＢＯＣ保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为１至１０重量份比１００重量份的基质聚合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN98100895.X

申请日期：1998-03-10

公开/公告号：CN1193128

公开/公告日：1998-09-16

主分类号：G03F7/033

申请/专利权人:日本电气株式会社

发明/设计人:井谷俊郎

主申请人地址:日本国东京都

专利代理机构:中科专利代理有限责任公司

代理人:卢纪

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶，其特征在于，在它当中加入了具有芳环的树脂。