一种在紫外吸收材料表面制作光栅的方法及其制品

摘要：

一种在紫外吸收材料表面制作光栅的方法，它是用准分子激光脉冲的干涉条纹直接作用于紫外吸收材料表面，使表面刻蚀出周期结构，制作出光栅。本方法制作的光栅，原子力显微镜表明，有波纹形的表面，有良好的周期性，刻蚀深度均匀，刻槽光滑，用本方法便于工业化制作光栅滤波器、光栅耦合器、光栅透镜或分布反馈Ｂｒａｇｇ光栅。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN96116970.2

申请日期：1996-06-19

公开/公告号：CN1168981

公开/公告日：1997-12-31

主分类号：G02B5/18

申请/专利权人:南京大学

发明/设计人:骆桂蓬; 祝世宁; 刘治国; 朱永元; 葛传珍; 陆亚林; 闵乃本

主申请人地址:210093江苏省南京市汉口路22号

专利代理机构:南京大学专利事务所

代理人:黄嘉栋

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种在紫外吸收材料表面制作光栅的方法，其特征是用准分子激光脉冲的干涉条纹直接作用于紫外吸收材料表面，制作出光栅结构。