在基片上扩散成像的方法和组合物

摘要：

一种在有机聚合物层中形成图像的方法，它包括下列顺序步骤：$A.使用层压法把包含聚合物带的未成像第一层用到基片上；$B.往未成像的第一层上，涂上含有由有机酸或碱及增塑剂组成的液态溶液的已成像第二层；$C.将已成像第二层加热以影响有机酸或碱及增塑剂对第一层的下部区域的渗透，因此，第一层的下部区域中的聚合物膜因为有机酸或膜的反应而变为不溶；$D.用水或水溶液洗涤这些层以便从第一层的已成像区域除去已溶的聚合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN96110006.0

申请日期：1996-05-08

公开/公告号：CN1137641

公开/公告日：1996-12-11

主分类号：G03C8/02

申请/专利权人:纳幕尔杜邦公司

发明/设计人:Ｊ·Ｊ·费尔滕

主申请人地址:美国特拉华州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:吴大建

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种在有机聚合物层中制造图形的方法，它包括下述相继步骤：Ａ．用层压法把包含聚合物带的未成像第一层用到基片上；Ｂ．把包含由有机酸或碱及增塑剂的已成像第二层涂到未成像第一层上；Ｃ．将已成像第二层加热，以影响有机酸或碱及增塑剂渗透入第一层的下方区域，由于与有机酸或碱的反应，第一层下方区域的聚合物膜因此变为不溶；以及Ｄ．用水或含水溶液洗涤此层，以便从第一层的已成像区域除去已溶的聚合物。