一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模

摘要：

本实用新型涉及制作量子线超微细图形过程中所用的掩模。本掩模包括有透明衬底和量子金属线图形，其特征在于所述量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上，本掩模不仅具有稳定性好，使用寿命长的优点，而且由于透明光栅的尺寸较大，容易制作，成品率高。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN95203680.0

申请日期：1995-02-28

公开/公告号：CN2251151

公开/公告日：1997-04-02

主分类号：G03F7/00

申请/专利权人:中国科学技术大学

发明/设计人:付绍军; 夏安东; 田杨超; 洪义麟; 阚娅; 陶晓明; 胡一贯; 张新夷

主申请人地址:230026安徽省合肥市金寨路96号

专利代理机构:中国科学技术大学专利事务所

代理人:陈进

国别省市代码:安徽(34)

权利要求：

1．一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模，包括有透明衬底的量子金属线图形，其特征在于所述的量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上。