使用光敏材料的电子照像法

摘要：

一种电子照像方法，其中，施加显影偏压将光敏材料上的静电潜影，显影所述偏压与光敏材料的电荷极性相同，该显影偏压值高于光衰减特性曲线中，接近大曝光量区之曲线与接近小曝光量区之曲线相交之点的相应电势。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN95118314.1

申请日期：1995-10-31

公开/公告号：CN1131285

公开/公告日：1996-09-18

主分类号：G03G15/06

申请/专利权人:三田工业株式会社

发明/设计人:∴田充司; 田中作白; 寺田幸史; 寺田卓司; 山里一郎; 宫本荣一

主申请人地址:日本大阪府

专利代理机构:北京市中原信达知识产权代理公司

代理人:张天舒

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种电子照像法，包括将光敏材料充电，将其对载像光曝光形成静电潜像，并在施加显影偏压的状态下将该静电潜像显影，所说显影偏压采用与该光敏材料电荷极性相同之电势，其值高于光衰减特性曲线中，接近大曝光量区的曲线与接近小曝光量区的曲线相交之点的相应电势（ＥＨ）。