处理光刻工艺中产生的废液的方法

摘要：

本文公开了一种方法，它用简单的、对环境无害的有机化合物ｒ－丁内酯和苄醇来显影和剥离可游离基引发的加成聚合的光刻胶，阳离子固化的光刻胶和焊接护膜以及Ｖａｃｒｅｃ感光树脂。本发明也提供了一种在一种活性生物物质中处理汇合的显影剂和剥离剂漂洗液的方法，它能降低显影剂／剥离剂／光刻胶／焊接护膜废液的生物耗氧量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN95117362.6

申请日期：1995-09-25

公开/公告号：CN1132359

公开/公告日：1996-10-02

主分类号：G03F7/26

申请/专利权人:国际商业机器公司

发明/设计人:Ａ·Ｃ·比哈特; Ｇ·Ｓ·克塞纳克; Ｋ·Ｉ·帕佩瑟马斯; J·A·舒特莱夫;J·J·瓦格纳

主申请人地址:美国纽约

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:李勇

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种光刻薄膜的显影方法，它包括以下步骤：把所说的薄膜与主要由选自苄醇和ｒ－丁内酯的溶剂组成的显影溶液接触；从经光刻过的薄膜上除去所说的显影溶液和溶解的薄膜；用选自水和低蒸汽压有机溶剂的漂洗液把残留的显影溶液以及溶解的薄膜从光刻过的薄膜上漂洗干净；在一种经活化的生物物质中往漂洗液中通入空气。