光掩模及其制造方法

摘要：

本发明涉及一种光掩模，该光掩膜可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为１８０°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离Ｄ满足Ｄ＝ｂλ／ＮＡｍ的关系。ｂ的取值范围为１．３５＜ｂ≤１．９。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN95107777.5

申请日期：1995-06-28

公开/公告号：CN1118457

公开/公告日：1996-03-13

主分类号：G03F1/00

申请/专利权人:株式会社日立制作所

发明/设计人:长谷川升雄; 寺泽恒男; 福田宏; 早野胜也; 今井彰; 茂庭明美; 冈崎信次

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:王以平

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种光掩模，至少包括对曝光用光半透明的区域和透明的区域，且通过上述半透明区域和上述透明区域的光的相位差实质上为１８０°，其特征在于：在由上述透明区域构成的主图形的周围，配置透过光的相位差与上述透明区域相同而且透明的辅助图形，上述主图形的中心或者所希望的中心线与上述辅助图形的中心或者所希望的中心线之间的距离Ｄ满足Ｄ＝ｂλ／ＮＡｍ（其中，ＮＡｍ为投影光学系统的掩模一侧的数值孔径，λ为曝光波长，ｂ为系数，取值范围为１．３５＜ｂ≤１．９）的关系。