一种掩模原版及用其测量挡板设定精度的方法

摘要：

一种设定分步曝光机挡板的方法包括如下步骤：由所述挡板在晶片上形成第一图形，并由掩模原版的镀铬图形在晶片上形成第二图形；比较所述第一和第二图形；根据所述第一和第二图形间的差别测定挡板的设定误差。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN95104594.6

申请日期：1995-04-01

公开/公告号：CN1115415

公开/公告日：1996-01-24

主分类号：G03F1/00

申请/专利权人:现代电子产业株式会社

发明/设计人:黄俊

主申请人地址:韩国京畿道

专利代理机构:柳沈知识产权律师事务所

代理人:马涛

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

一种用来测量分步机档板的掩模原版，它包括：多个同心的线性图形，并且该图形与档板通过对光致抗蚀层曝光而形成的图形形状相同，以使所述档板形成的图形与所示掩模原版形成的图形可相互比对。