光调制装置

摘要：

具有基板４、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导５、在基板４上从入射光波导５分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的２个位相偏移光波导６和在基板４上把位相偏移光波导６合流形成的出射光波导７。位相偏移光波导６中至少一边具有使偏振反向的偏振反向部分８。也可以具有在位相偏移光波导６的一部分或多个部分的区域形成的光透过膜。也可具有在位相偏移光波导６上或其附近的一部分区域形成的缓冲层１４。也可以在没有缓冲层１４的区域的一部分或全部形成的向位相偏移光波导６施加应力的透明物质膜。也可具有向位相偏移光波导６之一的一部分施加应力的应力施加部件。也可以具有向位相偏移光波导６之一的一部分或全部照射光的光照射装置２６。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN94190477.6

申请日期：1994-07-07

公开/公告号：CN1111919

公开/公告日：1995-11-15

主分类号：G02F1/035

申请/专利权人:株式会社东金

发明/设计人:户叶∴一; 村松良二; 田∴高信; 武田次夫

主申请人地址:日本宫城县

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:傅康% 叶恺东

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种光调制装置，其特征在于：具有基板、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导、在上述基板上从入射光波导分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的２个位相偏移光波导和在上述基板上把上述位相偏移光波导合流形成的出射光波导，上述位相偏移光波导中至少一边的位相偏移光波导具有使偏振反向的偏振反向部分。