可用共挤出法制造的磁头压垫

摘要：

一种压垫，用以推动胶片使其与照相机中的磁头接触，具有与胶片上的磁性存储器相互作用的装置。这种压垫用Ｓａｎｔｏｐｒｅｎｅ^Ｒ或Ｋｒａｔｏｎ^Ｒ材料作为芯部材料，用聚乙烯作为被覆层材料。选用这些材料是出于机械性能的原因和它们适宜用共挤出法加工。此外，这些材料与胶片的相互反应极小。被覆层材料能有效粘附到芯部材料上，从而最大限定地减小了脱层引起的种种问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN94113773.2

申请日期：1994-10-28

公开/公告号：CN1114428

公开/公告日：1996-01-03

主分类号：G03B17/00

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:Ｒ·Ｄ·韦格纳; Ｓ·Ｔ·福尔肯伯里; Ｊ·Ｒ·哈门尼

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:张志醒% 曹济洪

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种压垫，用以推动胶片使之与照相机中的磁头接触，其特征在于该压垫包括：可变形的芯部材料；和敷到所述芯部材料上的材料层，所述材料层与胶片的摩擦系数较小，且所述材料层由能与所述芯部材料共挤出的材料制成。