光敏材料

摘要：

提供了一种光敏材料，可用于近紫外光波段（３００～５００ｎｍ），其中的光敏组合物中含有敏化剂、 交联剂、以及一种对光辐照曝光后能产生酸的组分。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN92112174.1

申请日期：1992-10-21

公开/公告号：CN1086023

公开/公告日：1994-04-27

主分类号：G03F7/038

申请/专利权人:北京化学试剂研究所% 清华大学

发明/设计人:洪啸吟; 吴兵; 毛应群

主申请人地址:100022北京市东郊九龙山

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种光敏材料，它包括载有光敏涂层的支持体，所述的光敏涂层含有：（１）一种聚合物及交联剂，在酸作用下，可交联成网状结构，交联剂含量为聚合物的５～１５０％ｗｔ。（２）一种或若干种敏化剂，使光敏涂层在紫外吸收波段在近紫外区［３００～５００ｎｍ］；（３）一种光敏组分，它在对光辐照射曝光后可产生酸。