非接触式光刻曝光光学系统

摘要：

非接触式光刻曝光光学系统，涉及一种能产生多点（线）光源阵列的光学结构，适用于光刻复制任意宽线条。其特征在于采用复眼棱镜组的光学结构取代已有技术中的复眼柱面透镜组和准直物镜组。复眼棱镜组由２ｎ个条形棱镜光轴对称地排列在一块玻璃平板上加以胶合而成（ｎ＝４～１０），系统采用了Ｎ组柱面倍率透镜组的结构，使系统具有结构简单、新颖、易于加工、制造成本低、刻线宽度可调、工作范围宽、使用方便等特点。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN89212805.4

申请日期：1989-03-09

公开/公告号：CN2045126

公开/公告日：1989-09-27

主分类号：G03F7/20

申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

发明/设计人:郝沛明; 周晨波

主申请人地址:四川省成都市双流350信箱

专利代理机构:中国科学院成都专利事务所

代理人:张一红

国别省市代码:四川(51)

权利要求：

非接触式光刻曝光光学系统，涉及一种能产生多点（线）光源阵列的光学结构，其特征在于采用复眼棱镜组４的光学结构以产生多点（线）光源阵列，复眼棱镜组４由２ｎ个条形棱镜光轴对称地排列在一块玻璃平板上加以胶合而成，并且置于系统的透镜３和折光反射镜５之间，采用Ｎ组柱面倍率透镜组７的光学结构，Ｎ随刻线宽度的不同可以取不同值。