用于影响在对辐射敏感的靶上的X-射线或伽马辐射效果的方法和调节体

摘要：

用于影响在对辐射敏感的靶上的X-射线或伽马辐射效果的方法和调节体,特别涉及物体的辐射照相的有选择的改进.根据本发明包括至少两个层组的调节体被安置在靶的前面.其中每个层组分别在X-射线或伽马辐射或前层组的二次辐射的影响下发射二次辐射,其能量在分别由位于接着的层组中或被安置在最末层组后的靶中的元素的电子壳层k所确定的吸收能量等级的上面.

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN86102161

申请日期：1986-03-28

公开/公告号：CN86102161

公开/公告日：1987-10-14

主分类号：G03C5/17

申请/专利权人:财政发明发明家总银行

发明/设计人:彼得·泰莱基

主申请人地址:匈牙利布达佩斯H-1054萨鲍恰格广场5-6号

专利代理机构:上海专利事务所

代理人:颜承根

国别省市代码:匈牙利;HU

权利要求：

一种影响在对辐射敏感的靶上的Ｘ—射线或伽马辐射的效果的方法，特别是由Ｘ—射线或伽马辐射在靶上所形成的物体的象的有选择的改进方法，在其过程中其薄层结构的调节体被安置在靶前面的辐射束的途径上，其特征为在靶前至少安置二个层组（３１，３２…３ｎ），每个该层组（例如３２）包括多个分别在Ｘ—射线或伽马辐射，或前层组（例如３１）的二次辐射的影响下发射二次辐射的重叠层（８１，８２，…８ｋ），其能量处于由分别处在接着的层组（例如３２）或在安置在最末层组（３ｎ）后面的靶（７）中的元素的电子壳层ｋ确定的吸收能级的上面。