一种光刻机整平装置
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一种光刻机整平装置

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本实用新型公开了一种光刻机整平装置,涉及光刻机工装领域,包括可承载硅片移动的承载板,所述承载板的前、后两端均设置有可调节位置的压平杆,所述压平杆的底部呈圆弧状,用于贴合硅片的工艺边,所述压平杆上可拆卸安装有控制板,所述控制板的底部向下弯折形成联动臂,所述联动臂的下方通过转轴连接有顶升臂,位于两侧的所述顶升臂通过同步驱动单元相连接,本实用新型通过压平杆对硅片的压力抵紧,能够减少硅片边缘处地翘起现象,提高硅片的平整度,有效减少光刻机光学系统工作时的误差,进一步提高了硅片加工时的精度。压平杆与硅片工艺边的接触面呈圆弧状,可有效避免压平杆与工艺边接触时产生压痕,保障了硅片的加工质量。

实用新型

CN202321906038.6

2023-07-19

CN220290030U

2024-01-02

G03F7/20(2006.01)

安徽国芯智能装备有限公司

薛业保;章广飞;王运钢;李文静

230051 安徽省合肥市包河经济开发区重庆路与兰州路交叉口中关村协同创新智汇园D3栋1楼

合肥律众知识产权代理有限公司

朱波

安徽;34

1.一种光刻机整平装置,包括可承载硅片移动的承载板(1),其特征在于:所述承载板(1)的前、后两端均设置有可调节位置的压平杆(11),所述压平杆(11)的底部呈圆弧状,用于贴合硅片的工艺边; 所述压平杆(11)上可拆卸安装有控制板(2),所述控制板(2)的底部向下弯折形成联动臂(21),所述联动臂(21)的下方通过转轴连接有顶升臂(3),位于两侧的所述顶升臂(3)通过同步驱动单元相连接,用于控制所述顶升臂(3)、联动臂(21)、控制板(2)以及压平杆(11)同步活动,直至所述压平杆(11)与硅片相抵。 2.根据权利要求1所述的光刻机整平装置,其特征在于:所述同步驱动单元包括有分别通过转轴连接与顶升臂(3)底部的随动臂(4),所述随动臂(4)与承载板(1)相平行,一对所述随动臂(4)上拆卸式连接有同一个对位板(5)。 3.根据权利要求2所述的光刻机整平装置,其特征在于:所述同步驱动单元还包括有安装于承载板(1)底部的气缸(6),所述气缸(6)的推杆与对位板(5)的中心处相连接。 4.根据权利要求1所述的光刻机整平装置,其特征在于:所述压平杆(11)的表面且靠上方开设有限位凹槽(12),所述控制板(2)的顶端延伸至限位凹槽(12)的内部,且压平杆(11)的端部设置有对位螺栓(13),所述对位螺栓(13)延伸至限位凹槽(12)的内壁与控制板(2)相连接。 5.根据权利要求1所述的光刻机整平装置,其特征在于:所述控制板(2)与联动臂(21)的弯折部位贯穿设置有限位转轴(22),所述承载板(1)的侧面均拆卸式连接有对位杆(23),所述对位杆(23)呈L状结构,且对位杆(23)的端部设置有转动螺套(24),所述转动螺套(24)与限位转轴(22)的端部相连接。 6.根据权利要求2所述的光刻机整平装置,其特征在于:所述承载板(1)的底端拆卸式连接有导向轨道(7),所述随动臂(4)上开设有可容纳导向轨道(7)穿过的间隙,且随动臂(4)的间隙内侧壁上沿着承载板(1)方向形成滑移块(8),当所述随动臂(4)向上滑动时,所述滑移块(8)沿着导向轨道(7)方向同步滑动。
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