一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉

摘要：

本实用新型公开了一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，包括底座、加热组件，所述加热组件安装在所述底座上方，还包括用于带动陶胚进行公转的第一旋转机构，所述第一旋转机构安装在所述底座上，所述第一旋转机构包括第一旋转组件、转动块、固定柱、放置盘，所述转动块安装在所述第一旋转组件上，所述固定柱固定在所述转动块上方，所述放置盘固定在所述固定柱上方。本实用新型通过设置第一旋转机构，开始烧制时，启动电机，电机通过第一转轴带动转盘转动，转盘带动放置盘上的陶胚进行公转，如此使得陶胚能够均匀受热，有效提高了陶瓷的生产质量。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN202320994175.3

申请日期：2023-04-27

公开/公告号：CN220339067U

公开/公告日：2024-01-12

主分类号：F27B9/16(2006.01)

申请/专利权人:大埔县益成实业有限公司

发明/设计人:詹骐玮;詹益环

主申请人地址:514200 广东省梅州市大埔县高陂镇产业集聚区内

专利代理机构:北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人:杜娇

国别省市代码:广东;44

权利要求：

1.一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，包括底座(1)、加热组件，所述加热组件安装在所述底座(1)上方，其特征在于：还包括用于带动陶胚进行公转的第一旋转机构(8)，所述第一旋转机构(8)安装在所述底座(1)上； 所述第一旋转机构(8)包括第一旋转组件、转动块(804)、固定柱(805)、放置盘(806)，所述转动块(804)安装在所述第一旋转组件上，所述固定柱(805)固定在所述转动块(804)上方，所述放置盘(806)固定在所述固定柱(805)上方，所述第一旋转组件包括电机(801)、第一转轴(802)、转盘(803)，所述第一转轴(802)安装在所述电机(801)输出端，所述转盘(803)安装在所述第一转轴(802)上方。 2.根据权利要求1所述的一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，其特征在于：第二旋转机构(9)安装在所述第一旋转机构(8)上，所述第二旋转机构(9)包括支撑柱(901)、第二旋转组件，所述第二旋转组件安装在所述支撑柱(901)上方。 3.根据权利要求2所述的一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，其特征在于：所述第二旋转组件包括齿环(902)、齿轮(903)、第二转轴(904)，所述齿轮(903)安装在所述齿环(902)内侧，所述第二转轴(904)固定在所述齿轮(903)内侧。 4.根据权利要求1所述的一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，其特征在于：所述转盘(803)与所述第一转轴(802)焊接，所述转动块(804)的材质为高锰钢。 5.根据权利要求1所述的一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，其特征在于：所述放置盘(806)与所述固定柱(805)焊接，所述放置盘(806)的材质为不锈钢。 6.根据权利要求3所述的一种加热均匀的陶瓷烧制窑炉，其特征在于：所述支撑柱(901)的数量为四个，所述齿环(902)与所述支撑柱(901)焊接。