一种248nm正型光刻胶及其制备方法

摘要：

本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种248nm正型光刻胶及其制备方法。一种248nm正型光刻胶，包括以下重量份的原料：成膜树脂20‑30份，光酸发生剂0.4‑0.8份，有机碱0.03‑0.05份，表面活性剂0.03‑0.05份，溶剂60‑80份；所述成膜树脂为聚氨酯丙烯酸酯共聚物和丙烯酸酯共聚物中的一种。本申请的一种248nm正型光刻胶，通过各个组份的协同作用，使用聚氨酯丙烯酸酯共聚物、丙烯酸酯共聚物作为成膜树脂，促使光刻胶具有较好的附着力、耐磨性和抗刻蚀性能。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN202311626142.4

申请日期：2023-11-30

公开/公告号：CN117631455A

公开/公告日：2024-03-01

主分类号：G03F7/039(2006.01)

申请/专利权人:瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司

发明/设计人:徐亮;陈韦帆;林书玮;俞凯文

主申请人地址:215000 江苏省苏州市吴中区吴中经济开发区民丰路501号

专利代理机构:北京维正专利代理有限公司

代理人:曹蓉

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

1.一种248nm正型光刻胶，其特征在于，包括以下重量份的原料：成膜树脂20-30份，光酸发生剂0.4-0.8份，有机碱0.03-0.05份，表面活性剂0.03-0.05份，溶剂60-80份；所述成膜树脂为聚氨酯丙烯酸酯共聚物和丙烯酸酯共聚物中的一种。 2.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述光刻胶固体含量为10-25%。 3.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚乙酸酯和醋酸戊酯中的一种。 4.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述表面活性剂为脂肪醇OE-OP嵌段共聚物。 5.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯共聚物包括以下重量份的原料：聚醚多元醇40-60份，异氰酸酯10-20份，催化剂1-3份，封端剂0.5-0.8份，丙烯酸羟乙酯1-3份，丙烯酸丁酯10-20份，甲基丙烯酸甲酯20-30份，反应溶剂30-40份，引发剂0.3-0.5份。 6.根据权利要求5所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯共聚物的制备方法，包括以下具体步骤： 预先将聚醚多元醇、异氰酸酯、催化剂混合，加热反应，然后加入封端剂和丙烯酸羟乙酯反应后，形成丙烯酸酯封端聚氨酯预聚体，然后将丙烯酸酯封端聚氨酯预聚体与丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、反应溶剂、引发剂混合，加热反应，形成聚氨酯丙烯酸酯共聚物。 7.根据权利要求5所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述光刻胶原料还包括纳米二氧化硅3-5份，硅烷偶联剂1-3份。 8.根据权利要求7所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述硅烷偶联剂为含双键的硅烷偶联剂。 9.一种如权利要求1-8任一项所述的248nm正型光刻胶的制备方法，其特征在于，包括以下具体步骤：将成膜树脂、光酸发生剂、有机碱、表面活性剂和溶剂混合振荡，过滤后制得248nm正型光刻胶。