一种ESCAP型光刻胶及其使用方法
本发明一种ESCAP型正性光刻胶，其特征在于：所述正性光刻胶包含(A)聚合物树脂、(B)光酸、(C)溶解促进剂、(D)猝灭剂、(E)流平剂和(F)溶剂；所述(A)聚合物树脂，包含以下两种重复单元：所述RA1、RA2独立地为氢或C1～C6的烷基；所述(C)溶解促进剂选自苯二酚类物质、苯三酚类物质或包含羧基的脂肪环烃类物质中至少一种。本发明提供的ESCAP型正性KrF光刻胶，能够在孔洞和沟槽等暗场图形时具有良好的解析能力，形成形貌良好的光刻图形。
发明专利
CN202311546478.X
2023-11-17
CN117608164A
2024-02-27
G03F7/004(2006.01)
徐州博康信息化学品有限公司
傅志伟;朱玉呈;吴信;王文毅;许义祥;梅崇余;潘新刚
221003 江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
张东梅
江苏;32
1.一种ESCAP型正性光刻胶，其特征在于：所述正性光刻胶包含(A)聚合物树脂、(B)光酸、(C)溶解促进剂、(D)猝灭剂、(E)流平剂和(F)溶剂； 所述(A)聚合物树脂，包含以下两种重复单元： 所述RA1、RA2独立地为氢或C1～C6的烷基； 所述(C)溶解促进剂选自苯二酚类物质、苯三酚类物质或包含羧基的脂肪环烃类物质中至少一种。 2.根据权利要求1所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述(C)溶解促进剂的结构式，选自式C-1或式C-2结构中至少一种： 其中，R1为C1～C3的烷基，n11为2或3，n12为0～3的整数； 其中，R2为脂肪环烃，且脂肪环烃可以包含支链，R3为氢或羟基，n为1～2的整数。 3.根据权利要求2所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述(C)溶解促进剂结构式，选自以下结构中至少一种： 4.根据权利要求1所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述(A)聚合物树脂还包含以下式-A3重复单元： 其中，所述RA3为氢或C1～C6的烷基。 5.根据权利要求4所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述(A)聚合物树脂还包含以下技术特征中至少一项： a1)所述(A)聚合物树脂中，以构成(A)聚合物树脂所有重复单元的总和为基准计，式-A1重复单元的摩尔分数为55％～75％，式-A2重复单元的摩尔分数为5％～25％，式-A3重复单元的摩尔分数为10％～30％； a2)所述(A)聚合物树脂的重均分子量Mw为8～20k，分子量分布指数Mw/Mn<2.5。 6.根据权利要求1所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述正性光刻胶还包含以下技术特征中至少一项： b1)所述(B)光酸为离子型光酸； b2)所述(D)猝灭剂选自三乙醇胺、四丁基氢氧化铵、三(3,6-二氧杂庚基)胺、三辛胺、三异丙醇胺、三乙烯二胺、2-乙基-N,N-双(2-乙己基)-1-己胺、2-苯基苯并咪唑或二苯胺中的至少一种； b3)所述(E)流平剂选自3M氟碳表面活性剂FC-4430和特洛伊Troysol S366中的至少一种； b4)所述(F)溶剂选自丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇甲醚、乳酸乙酯、苯甲醚、丙二醇单醋酸酯、丙二醇单乙醚、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、二缩乙二醇甲乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、双丙酮醇或γ-丁内脂中的至少一种。 7.根据权利要求1～6任一项所述的ESCAP型正性光刻胶，其特征在于，所述正性光刻胶中各组分的质量分数为： 8.一种如权利要求1～7任一项所述的ESCAP型正性光刻胶的使用方法，其特征在于，所述使用方法包括如下步骤：将所述正性光刻胶涂布在硅片上，依次经过前烘、曝光、后烘和显影，得到光刻图案。 9.根据权利要求8所述的ESCAP型正性光刻胶的使用方法，其特征在于，使用方法还包括如下技术特征中的至少一项： c1)前烘温度为70～150℃； c2)前烘时间为30～180s； c3)所述曝光使用的曝光机为KrF曝光机； c4)后烘温度为90～200℃； c5)后烘时间为30～180s； c6)所述显影采用的显影液为四甲基氢氧化铵水溶液； c7)显影时间为30～130s。