10.6μm激光高透过的红外低辐射材料

摘要：

本发明公开了10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，包括玻璃基材，位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜，以及位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体，一维光子晶体为竖向多层分布，一维光子晶体内设置有缺陷层，且激光减反射膜和一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜，一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层；本发明具有10.6μm激光透过率≥99％，8μm‑14μm红外波段平均辐射率≤0.15，良好的疏水和疏油性能、良好的耐候性等特点，可用于10.6μm激光窗口的红外特征抑制。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN202311353556.4

申请日期：2023-10-18

公开/公告号：CN117348124A

公开/公告日：2024-01-05

主分类号：G02B1/115(2015.01)

申请/专利权人:济南能谱航空科技有限公司

发明/设计人:于媛媛;李长平

主申请人地址:250098 山东省济南市高新区崇华路以东世纪财富中心C座1113室

专利代理机构:北京京专专利代理事务所(普通合伙)

代理人:赵德新

国别省市代码:山东;37

权利要求：

1.10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，包括： 玻璃基材； 位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜； 以及，位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体； 其中，所述一维光子晶体为竖向多层分布，所述一维光子晶体内设置有缺陷层，且所述激光减反射膜和所述一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜。 2.根据权利要求1所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述玻璃基材为锗玻璃、硫化锌玻璃、硒化锌玻璃中的一种，所述玻璃基材的厚度为0.5mm-3.0mm。 3.根据权利要求2所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述激光减反射膜为硫化锌膜、三氟化钇膜中的一种，所述激光减反射膜的层数为1层。 4.根据权利要求3所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述玻璃基材为锗玻璃时，所述激光减反射膜为硫化锌膜，所述的硫化锌膜的厚度为1170nm-1250nm。 5.根据权利要求3所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述玻璃基材为硫化锌玻璃、硒化锌玻璃中的一种时，所述激光减反射膜为三氟化钇膜，所述的三氟化钇膜的厚度为1550nm-1950nm。 6.根据权利要求1所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层，所述高折射率材料层为锗膜、碲膜中的一种，所述低折射率材料层为硒化锌膜、硫化锌膜、三氟化钇膜中的一种。 7.根据权利要求6所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述一维光子晶体的层数为6层，所述缺陷层位于第3层和第4层之间。 8.根据权利要求7所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述高折射率材料层和所述低折射率材料层的光学厚度比为0.785-1.273，一层高折射率材料层和一层低折射率材料层的光学厚度和为一维光子晶体中心波长的一半，所述一维光子晶体的中心波长为9.5μm-10.6μm。 9.根据权利要求8所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述缺陷层为三氧化二铝膜、三氟化镱膜、二氧化硅膜、三氟化钇膜中的一种，所述的缺陷层厚度为3nm-285nm。 10.根据权利要求1所述的10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，所述类金刚石保护膜的厚度为10nm-50nm。