1.06μm激光窗口用红外低辐射材料

摘要：

本发明公开了一种1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，包括玻璃基材，位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜，以及位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体，激光减反射膜和一维光子晶体分别为竖向多层分布，且激光减反射膜和一维光子晶体的最外层均设置有含氟保护膜，激光减反射膜包括交替排列的第一高折射率材料层和第一低折射率材料层，一维光子晶体包括交替排列第二高折射率材料层和第二低折射率材料层；本发明1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，具有1.06μm激光透过率≥99％，8μm‑12μm红外波段辐射率≤0.17，可用于1.06μm激光窗口的红外特征抑制。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN202311353358.8

申请日期：2023-10-18

公开/公告号：CN117369029A

公开/公告日：2024-01-09

主分类号：G02B1/115(2015.01)

申请/专利权人:济南能谱航空科技有限公司

发明/设计人:于媛媛;李长平

主申请人地址:250098 山东省济南市高新区崇华路以东世纪财富中心C座1113室

专利代理机构:北京京专专利代理事务所(普通合伙)

代理人:赵德新

国别省市代码:山东;37

权利要求：

1.1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，包括： 玻璃基材； 位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜； 以及，位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体； 其中，所述激光减反射膜和所述一维光子晶体分别为竖向多层分布，且所述激光减反射膜和所述一维光子晶体的最外层均设置有含氟保护膜。 2.根据权利要求1所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述玻璃基材为石英玻璃、硅酸铝玻璃、蓝宝石玻璃中的一种，所述玻璃基材的厚度为0.5mm-3.0mm。 3.根据权利要求1所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述含氟保护膜厚度为10nm-100nm。 4.根据权利要求1所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述激光减反射膜包括交替排列的第一高折射率材料层和第一低折射率材料层； 所述第一高折射率材料层为二氧化钛膜、二氧化铪膜、二氧化铈膜中的一种，所述第一低折射率材料层为二氧化硅膜、三氧化二铝膜、二氟化镁膜、三氟化钇膜、三氟化镱膜中的一种，所述第一高折射率材料层厚度为198nm-260nm，所述第一低折射率材料层厚度为416nm-633nm。 5.根据权利要求4所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述激光减反射膜的总层数为2-4层。 6.根据权利要求1所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述一维光子晶体包括交替排列第二高折射率材料层和第二低折射率材料层，所述第二高折射率材料层为硅膜，所述第二低折射率材料层为三氟化钇膜、三氟化镱膜的一种。 7.根据权利要求6所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述一维光子晶体总层数为6层。 8.根据权利要求7所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述第二低折射率材料层为三氟化钇膜时，第二高折射率材料层与第二低折射率材料层的光学厚度比为0.785，一层第二高折射率材料层和一层第二低折射率材料层的光学厚度和为5μm。 9.根据权利要求7所述的1.06μm激光窗口用红外低辐射材料，其特征在于，所述第二低折射率材料层为三氟化镱膜时，第二高折射率材料层与第二低折射率材料层的光学厚度比为0.852，一层第二高折射率材料层和一层第二低折射率材料层的光学厚度和为4.45μm。 10.1.06μm激光窗口用红外低辐射材料生产方法，用于上述权利要求1-9任一项所述的红外低辐射材料，其特征在于，具体包括以下步骤： S1、采用真空蒸镀工艺，在玻璃基材一侧表面沉积激光减反射膜，并在激光减反射膜表面沉积含氟保护膜； S2、采用真空蒸镀工艺，在玻璃基材另一侧表面沉积一维光子晶体，并在一维光子晶体表面沉积含氟保护膜。