一种旋转靶材的烧结垫片及烧结方法

摘要：

本发明属于靶材烧结技术领域，涉及一种旋转靶材的烧结垫片及烧结方法。烧结垫片包括圆盘主体、设置在圆盘主体下端的垫脚、贯穿圆盘主体上下端的通气孔；所述圆盘主体的上表面内凹形成内凹结构，所述内凹结构包括外侧的环形斜面和位于环形斜面内的圆盘平台；所述圆盘主体的上表面的粗糙度为0.2~3.2μm；所述环形斜面同一水平线上各处的斜面角度保持相同，所述环形斜面的斜面角度为5~45°。本发明提供的烧结垫片结构简单，使用该烧结垫片的烧结方法可改善旋转靶坯在烧结时因脱脂导致的开裂现象，提高烧结密度合格率，有效提高靶材的良率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN202311251693.7

申请日期：2023-09-26

公开/公告号：CN117367136A

公开/公告日：2024-01-09

主分类号：F27D5/00(2006.01)

申请/专利权人:先导薄膜材料(淄博)有限公司

发明/设计人:高日旭;刘文杰;余芳;李明鸿

主申请人地址:256300 山东省淄博市先创区渤海路以南、创业大道以东

专利代理机构:北京天盾知识产权代理有限公司

代理人:肖小龙

国别省市代码:山东;37

权利要求：

1.一种旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述烧结垫片包括圆盘主体、设置在圆盘主体下端的垫脚、贯穿圆盘主体上下端的通气孔；所述圆盘主体的上表面内凹形成内凹结构，所述内凹结构包括外侧的环形斜面和位于环形斜面内的圆盘平台； 所述圆盘主体的上表面的粗糙度为0.2~3.2μm；所述环形斜面同一水平线上各处的斜面角度保持相同，所述环形斜面的斜面角度为5~45°。 2.如权利要求1所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述环形斜面为环形直斜面；所述通气孔设置在圆盘平台的中心。 3.如权利要求1或2所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述环形斜面的外径与圆盘主体的外径保持一致；所述环形斜面的内径与圆盘平台的外径保持一致；所述环形斜面的外径为160~260mm，所述圆盘平台外径为145~210mm。 4.如权利要求1所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述圆盘主体的上表面的粗糙度为0.5~1.6μm；所述环形斜面的斜面角度为10~35°。 5.如权利要求1所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述圆盘主体的密度为2~5g/cm3；所述圆盘主体的耐受温度为1500~1700℃；所述圆盘主体的维氏硬度≥16Gpa。 6.如权利要求1或5所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述圆盘主体的材质为掺SiO2的Al2O3陶瓷材料；其中，Al2O3：SiO2的质量占比为90%~100%：10%~0%。 7.如权利要求1所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述垫脚设有多个；多个垫脚之间留有间距。 8.如权利要求6所述的旋转靶材的烧结垫片，其特征在于，所述垫脚之间的间距为10~50mm；所述垫脚的高度为5~30mm。 9.一种旋转靶材的烧结方法，其特征在于，使用权利要求1~8任一项所述的烧结垫片，在烧结垫片与旋转靶材坯接触的位置撒一层氧化铝砂，将旋转靶材坯置于环形斜面上，烧结后得旋转靶材。 10.如权利要求9所述的旋转靶材的烧结方法，其特征在于，氧化铝砂的粒径为100~800μm。