透明防伪元件及制造方法和设备、安全物品、存储介质
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透明防伪元件及制造方法和设备、安全物品、存储介质

引用
本发明提出了一种透明防伪元件及制造方法和设备、安全物品、存储介质,透明防伪元件包括:透明材料层,透明材料层具有图案化的栅格凹凸结构,栅格凹凸结构包括多个凹槽;多个防伪介质层,多个防伪介质层设于凹槽中;多个防伪介质层包括:磁性材料层、荧光材料层、电介质材料层、红外材料层中的两种及以上的组合;多个防伪介质层分别设于多个凹槽内。通过本发明的技术方案,使用特殊设备能够观察到精细的图案或特定的防伪特征信号,从而提高了防伪效果和隐蔽效果。

发明专利

CN202310658767.2

2022-01-21

CN116811460A

2023-09-29

B42D25/21(2014.01)

中国印钞造币集团有限公司%中钞印制技术研究院有限公司

董亚鲁;陈韦;刘萃;陈庚;王斌;古克

100044 北京市西城区西直门外大街甲143号凯旋大厦;

北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)

尚志峰%汪海屏

1.一种透明防伪元件,其特征在于,包括: 透明材料层,所述透明材料层具有图案化的栅格凹凸结构,所述栅格凹凸结构包括多个凹槽; 多个防伪介质层,多个所述防伪介质层设于所述凹槽中; 所述多个所述防伪介质层包括:磁性材料层、荧光材料层、电介质材料层、红外材料层中的两种及以上的组合; 所述多个所述防伪介质层分别设于多个所述凹槽内。 2.根据权利要求1所述的透明防伪元件,其特征在于, 多个所述防伪介质层在所述凹槽内分层设置。 3.根据权利要求1所述的透明防伪元件,其特征在于, 所述透明材料层包括透明柔性基底层和透明胶质层,所述透明胶质层具有图案化的栅格凹凸结构; 所述透明胶质层位于所述透明柔性基底层的一侧或两侧。 4.根据权利要求1所述的透明防伪元件,其特征在于, 所述透明防伪元件在可见光波段内的透过率大于70%。 5.根据权利要求1所述的透明防伪元件,其特征在于, 所述透明防伪元件的厚度小于等于250μm。 6.根据权利要求1至5中任一项所述的透明防伪元件,其特征在于, 所述栅格凹凸结构包括多个形状、尺寸相同和/或不同的单元栅格; 其中,所述单元栅格的轮廓为所述凹槽并用于填充防伪介质,所述单元栅格的内部为所述透明材料层的凸起部分,所述轮廓的线宽小于30μm;和/或 所述单元栅格的宽度大于等于所述轮廓的线宽的最小值;和/或 所述防伪介质层的厚度为1μm-20μm。 7.根据权利要求6所述的透明防伪元件,其特征在于, 所述防伪介质层的材料粒径小于所述单元栅格的最小线宽。 8.一种安全物品,其特征在于,包括:如权利要求1至7中任一项所述的透明防伪元件。 9.根据权利要求8所述的安全物品,其特征在于, 所述安全物品还包括以下之一或其组合:透明视窗、安全线、宽条、印刷油墨层、基底层; 所述透明防伪元件施加于所述透明视窗或所述安全线或所述宽条的一侧或两侧;和/或所述透明防伪元件施加于所述印刷油墨层或所述基底层的一侧或两侧。 10.一种透明防伪元件制造方法,其特征在于,包括: 生成透明材料层; 在所述透明材料层上形成图案化的栅格凹凸结构; 在所述栅格凹凸结构的凹槽中填充多个防伪介质层,以形成透明防伪元件; 肉眼透视查看和/或使用透射光谱仪观察所述透明防伪元件; 使用透明防伪元件检测设备对所述透明防伪元件进行检测; 若所述透明防伪元件的透光率大于预设值,且在成像装置下,所述透明防伪元件呈现完整精细的图文,在不同检测设备下,所述透明防伪元件两面呈现预定的不同图文或者防伪特征信号,或同一面呈现预定的不同图文或防伪特征信号,则确定所述透明防伪元件合格。 11.一种透明防伪元件制造设备,其特征在于,包括: 透明材料层生成装置,用于生成透明材料层; 凹凸结构生成装置,用于在透明材料层上形成图案化的栅格凹凸结构; 填充装置,用于在透明材料层的凹槽中填充形成图案化的防伪介质层,以形成透明防伪元件; 透明防伪元件检测设备,用于检测所述透明防伪元件。 12.根据权利要求11所述的透明防伪元件制造设备,其特征在于,所述透明防伪元件检测设备包括: 传感器,所述传感器包括紫外传感器、红外传感器、磁性传感器、电容传感器中的至少两种,所述传感器用于获取所述透明防伪元件中的防伪特征信号; 激发源和成像装置,用于获取所述透明防伪元件中的防伪特征网络图案和/或用于获取所述透明防伪元件中的防伪介质层与透明材料层的光学对比度,其中,所述激发源包括透射式光源和/或反射式光源,所述成像装置包括高分辨率的成像装置; 透射光谱仪,用于观察所述透明防伪元件。 13.根据权利要求12所述的透明防伪元件制造设备,其特征在于,所述透明防伪元件检测设备包括以下之一:智能手机、智能手表、平板电脑。 14.一种透明防伪元件制造设备,其特征在于,包括: 存储器和处理器,其中,所述存储器上存储有可在所述处理器上运行的程序或指令,所述处理器执行所述程序或所述指令时实现如权利要求10所述的透明防伪元件制造方法的步骤。 15.一种可读存储介质,其上存储有程序或指令,其特征在于,所述程序或所述指令被处理器执行时实现如权利要求10所述的透明防伪元件制造方法的步骤。
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