光学防伪元件、防伪产品和光学防伪元件的制作方法
本发明提供了一种光学防伪元件、防伪产品和光学防伪元件的制作方法。光学防伪元件，包括基底层和光学层，光学层设置在基底层的一侧并与基底层连接，光学层包括微结构层，微结构层包括：第一区域，第一区域具有多个第一微结构；第二区域，第二区域具有多个第二微结构，从光学防伪元件的一侧观察，第一区域具有白色特征，第二区域具有干涉光学变色特征，第二微结构的比体积大于第一微结构的比体积。本发明解决了现有技术中光学防伪元件存在防伪性能差的问题。
发明专利
CN202111335319.6
2021-11-11
CN116100979A
2023-05-12
B42D25/30(2014.01)
中钞特种防伪科技有限公司%中国印钞造币集团有限公司
胡春华;李欣毅;吴远启;叶东
100070 北京市丰台区科学城星火路6号;
北京康信知识产权代理有限责任公司
唐振北
1.一种光学防伪元件，其特征在于，包括基底层(10)和光学层(20)，所述光学层(20)设置在所述基底层(10)的一侧并与所述基底层(10)连接，所述光学层(20)包括微结构层(30)，所述微结构层(30)包括： 第一区域(31)，所述第一区域(31)具有多个第一微结构(311)； 第二区域(32)，所述第二区域(32)具有多个第二微结构(321)，从所述光学防伪元件的一侧观察，所述第一区域(31)具有白色特征，所述第二区域(32)具有干涉光学变色特征，所述第二微结构(321)的比体积大于所述第一微结构(311)的比体积。 2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学层(20)还包括： 金属层(40)，所述金属层(40)与所述第一区域(31)远离所述基底层(10)的一侧连接； 干涉光变层(50)，所述干涉光变层(50)至少与所述第二区域(32)远离所述基底层(10)的一侧连接。 3.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学层(20)还包括保护层(60)，所述保护层(60)与所述金属层(40)远离所述基底层(10)的一侧连接。 4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，所述干涉光变层(50)与所述保护层(60)远离所述金属层(40)的一侧连接。 5.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述干涉光变层(50)包括顺次叠置设置的吸收层(51)、介电层(52)和反射层(53)，所述吸收层(51)至少与所述第二区域(32)远离所述基底层(10)的一侧连接。 6.根据权利要求5所述的光学防伪元件，其特征在于， 所述吸收层(51)的材料包括镍、铬、铝、银、铜、锡、钛中的至少一种；和/或 所述介电层(52)的材料包括氟化镁、二氧化硅、硫化锌、氮化钛、二氧化钛、一氧化钛、三氧化二钛、五氧化三鈦、五氧化二钽、五氧化二铌、二氧化铈、三氧化二铋、三氧化二铬、氧化铁、二氧化铪或氧化锌中的至少一种；和/或 所述反射层(53)的材料包括铝、银、锡、镍、钛中的至少一种。 7.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于， 所述金属层(40)包括铝、银、锡、镍、钛中的至少一种；和/或 所述金属层(40)的厚度大于10nm且小于等于80nm。 8.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于， 所述第一微结构(311)的比体积大于等于0且小于等于0.5um3/um2；和/或 所述第二微结构(321)的比体积的范围为大于0.4um3/um2且小于2um3/um2。 9.根据权利要求1至8中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一微结构(311)全部为消色白微结构。 10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，多个所述消色白微结构中至少两个所述消色白微结构的大小不同，多个所述消色白微结构中至少两个所述消色白微结构的高度不同，所述消色白微结构为凸起或凹槽。 11.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于， 所述消色白微结构的长度大于1um且小于10um；和/或 所述消色白微结构的深度大于0.1um且小于5um。 12.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述消色白微结构为微反射镜， 所述微反射镜的长度大于等于5um且小于等于10um；和/或 所述微反射镜的深度大于1um且小于等于4um。 13.根据权利要求1至8中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一区域(31)包括： 第一子区域(312)，所述第一子区域(312)绕所述第二区域(32)的外周连续设置，所述第一子区域(312)内的第一微结构(311)为消色白微结构； 第二子区域(313)，所述第二子区域(313)绕所述第一子区域(312)的外周连续设置，所述第二子区域(313)内的所述第一微结构(311)为非消色白微结构。 14.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其特征在于， 多个所述非消色白微结构呈周期排布；或者 多个所述非消色白微结构呈非周期排布。 15.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其特征在于，所述非消色白微结构沿延展方向的截面结构为：平坦结构、正弦型结构、矩形光栅结构、梯形光栅结构、闪耀光栅结构、弧形光栅结构中的至少一种结构。 16.根据权利要求1至8中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于， 多个所述第二微结构(321)呈周期排布；或者 多个所述第二微结构(321)呈非周期排布。 17.根据权利要求1至8中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第二微结构(321)沿延展方向的截面结构为：平坦结构、正弦型结构、矩形光栅结构、梯形光栅结构、闪耀光栅结构、弧形光栅结构中的至少一种结构。 18.一种防伪产品，其特征在于，包括权利要求1至17中任一项所述的光学防伪元件。 19.根据权利要求18所述的防伪产品，其特征在于，所述防伪产品还包括承载体，所述光学防伪元件设置在所述承载体上，所述承载体承载所述光学防伪元件的至少部分表面为白色。 20.一种光学防伪元件的制作方法，其特征在于，权利要求1至17中任一项所述的光学防伪元件采用所述光学防伪元件的制作方法制作，所述光学防伪元件的制作方法包括： 步骤S10：在所述基底层(10)的表面形成具有第一区域(31)和第二区域(32)的微结构层(30)，在所述第一区域(31)上形成第一微结构(311)，在所述第二区域(32)上形成比体积大于所述第一微结构(311)的第二微结构(321)；步骤S20：在所述微结构层(30)远离所述基底层(10)的表面形成金属层(40)； 步骤S30：在所述金属层(40)远离所述微结构层(30)的表面形成对所述第一区域(31)进行保护的保护层(60)； 步骤S40：去除所述第二区域(32)处的金属层(40)； 步骤S50：在远离所述基底层(10)的一侧表面形成干涉光变层(50)形成所述光学防伪元件。